PriceList i lirë për gazra specialiteti Furnizim elektronik/gjysmëpërçues Shkalla 99,999% Pastërtia e karbonit tetrafluoride/tetrafluorometan CF4 Pricemimi i gazit

"Sinqeriteti, inovacioni, rigoroziteti dhe efikasiteti" mund të jetë konceptimi i vazhdueshëm i organizatës sonë për atë afatgjatë për t'u vendosur së bashku me klientët për reciprocitet të ndërsjellë dhe përfitime të ndërsjella për pricelist të lirë për gazrat specialite Efektive, por ne po përpiqemi më të madhin tonë që në përgjithësi të jemi partneri juaj fantastik.
"Sinqeriteti, inovacioni, rigoroziteti dhe efikasiteti" mund të jetë konceptimi i vazhdueshëm i organizatës sonë për atë afatgjatë për t'u vendosur së bashku me klientët për reciprocitet të ndërsjellë dhe përfitime të ndërsjella përKinë CF4 dhe CF4 Gas, "Krijoni vlera, duke i shërbyer klientit!" është qëllimi që ne ndjekim. Ne sinqerisht shpresojmë se të gjithë klientët do të krijojnë bashkëpunim afatgjatë dhe të dobishëm reciprokisht me ne. Nëse dëshironi të merrni më shumë detaje në lidhje me kompaninë tonë, sigurohuni që të kontaktoni me ne tani!

Parametrat teknikë

Tetrafluoridi i karbonit është një hidrokarbur i halogjenizuar me formulën kimike CF4. Mund të vlerësohet si një hidrokarbure halogjene, metani i halogjenizuar, perfluorokarboni, ose si një përbërës inorganik. Tetrafluoride e karbonit është një gaz pa ngjyrë dhe pa erë, i pazgjidhshëm në ujë, i tretshëm në benzen dhe kloroform. I qëndrueshëm nën temperaturën dhe presionin normal, shmangni oksidantë të fortë, materiale të ndezshme ose të djegshme. Gazi jo i djegshëm, presioni i brendshëm i enës do të rritet kur të ekspozohet ndaj nxehtësisë së lartë, dhe ekziston rreziku i plasaritjes dhe shpërthimit. Isshtë kimikisht i qëndrueshëm dhe jo i ndezshëm. Vetëm reagenti metalik i lëngshëm amoniak-natrium mund të funksionojë në temperaturën e dhomës. Tetrafluoridi i karbonit është një gaz që shkakton efektin e serrës. Shtë shumë e qëndrueshme, mund të qëndrojë në atmosferë për një kohë të gjatë dhe është një gaz shumë i fuqishëm serë. Tetrafluoridi i karbonit përdoret në procesin e etching plazmatik të qarqeve të ndryshme të integruara. Përdoret gjithashtu si një gaz lazer, dhe përdoret në ftohës të temperaturës së ulët, tretës, lubrifikantë, materiale izoluese dhe ftohës për detektorë infra të kuqe. Isshtë gazi më i përdorur plazmatik në industrinë e mikroelektronikës. Shtë një përzierje e gazit tetrafluorometan me pastërti të lartë dhe gazit tetrafluorometan me pastërti të lartë dhe oksigjen me pastërti të lartë. Mund të përdoret gjerësisht në silikon, dioksid silikoni, nitrid silikoni dhe xhami fosfosilikate. Gërmimi i materialeve të filmit të hollë si tungsteni dhe tungsteni përdoret gjithashtu gjerësisht në pastrimin e sipërfaqes së pajisjeve elektronike, prodhimin e qelizave diellore, teknologjinë lazer, ftohjen e temperaturës së ulët, inspektimin e rrjedhjeve dhe pastruesin në prodhimin e qarkut të shtypur. Përdoret si një ftohës me temperaturë të ulët dhe teknologji plazmatike të thatë për qarqet e integruara. Masat paraprake për ruajtje: Ruani në një depo të ftohtë, të ventiluar jo të djegshme të gazit. Mbajeni larg nga zjarri dhe burimet e nxehtësisë. Temperatura e ruajtjes nuk duhet të kalojë 30 ° C. Ajo duhet të ruhet veçmas nga djegiet dhe oksiduesit lehtësisht (të djegshëm) dhe të shmangni ruajtjen e përzier. Zona e ruajtjes duhet të jetë e pajisur me pajisje për trajtimin e urgjencës së rrjedhjes.

Aplikimi:

① Ftohësi:

Tetrafluorometani ndonjëherë përdoret si një ftohës me temperaturë të ulët.

② Etching:

Përdoret vetëm në mikrofabrikimin e elektronikës vetëm ose në kombinim me oksigjenin si një plazmë plazma për silikonin, dioksidin e silikonit dhe nitridin e silikonit.

Paketa Normale:

Avantazhi:

① pastërtia e lartë, objekti i fundit;

Prodhuesi i Certifikatës së Certifikatës;

Dorëzimi i shpejtë;

Sistemi i analizës në linjë për kontrollin e cilësisë në çdo hap;

Kërkesa e madhe dhe procesi i përpiktë për trajtimin e cilindrit para mbushjes;